高分辨场发射扫描电子显微镜

仪器名称：高分辨场发射扫描电子显微镜（HR-FESEM）  

仪器型号：ZEISS GeminiSEM 360

所在实验室：嘉善祥符实验室5号楼2楼

性能指标：

无交叉光路设计

Beam Booster镜筒内减速

镜筒内正光轴上环形二次电子探测器

出色的低电压高分辨成像能力

二次电子分辨率*：1.2nm@1kV, 0.7nm@15kV

放大倍率：12~2,000,000倍

加速电压：20V~30kV

样品仓室：360mm(直径) ×270mm(高)

样品台行程：X/Y=130mm，Z=50mm，R=360°，T=-4°~ +70°

单张图片最大存储分辨率：32k*24k

大面积能谱：AZtecLive Ultim-Max 40

主要应用：

GeminiSEM 360在材料科学领域（包括纳米科学和纳米材料学、能源材料、工程材料、仿生材料、聚合物和催化剂等），工业用显微镜解决方案（包括机械、光学或电子组件的失效分析、断裂分析、表面微观结构表征，杂质确定等），电子元件和半导体亚表面分析，生命科学领域（包括拓扑结构的表征、高分辨的细胞、组织等超微结构的可视化等）都有广泛应用。

样品要求：

样品为干态，固体或粉末均可。

仪器说明：

蔡司GeminiSEM将高检测效率与出色的分析性能相结合，使用非浸没式物镜技术即可实现1kV以下的亚纳米分辨率。蔡司GeminiSEM 360在拥有的应用数量和样品类型的多样性方面表现突出。Gemini 1型镜筒采用了先进的高分辨率成像和分析技术。

GeminiSEM 360为材料科学、生命科学和工业测试提供了至臻的功能性。系统的核心——先进的 Gemini 1型镜筒设计为您提供表面灵敏、高分辨率图像。它可以进行高性能实验，在低电压条件下仍然能提供出色分辨率，在高探针电流条件下提供快速成像。它能同时进行Inlens二次电子成像和背散射电子成像，并收集高分辨率、表面和复合成分信息（对敏感样品也一样）。在较低真空条件下对绝缘样品进行成像时，无需放弃Inlens 衬度：NanoVP* 保证了出众功能，确保消除荷电影响下进行 Inlens 成像。

联系方式 ：

设备预约：刘云 18351722872

技术支持：张斌 17826854256